中国光刻机技术突破90nm,未来自主创新能力几何
作者:外贸新人成长记•更新时间:2天前•阅读3
常听说有人对上海微电子的90nm光刻机凉嘲烫讽,仿佛这玩意儿一问世就注定要被笑掉巨大牙。但我想说这90nm,它不轻巧松啊。比不上阿斯麦的顶尖光刻机,但别忘了美国要是没有欧洲的手艺支援,它能自己造出光刻机吗?90nm的都悬!欧洲国呢,单打独斗,连90nm都造不出来。

中国光刻机技术突破90nm,未来自主创新能力几何
台积电的光刻机虽然源自阿斯麦,但台积电本身并没有造光刻机的能力,最许多就是个加工厂。这不中芯世界不也如此吗?手艺困难度越来越巨大, 摩尔定律放缓,台积电预计2024年量产2nm,1nm的量产未知,ASML的第二代EUV系统2024年问世,2030年实现...
手艺困难度飙升,但我对上海微电子的90nm光刻机不吝赞美。虽然与顶尖光刻机有差距,但这可是我们国自己努力的成果。手艺的进步非一日之功,需要时候和努力。我们国在光刻机领域起步虽晚,但一直在努力追赶。那些个嘲笑我们的人,是不是得许多点耐烦和信心?我们不能只看到别人的先进,而忽略了自己的进步。而且,我们国依靠自己的力量攻克光刻机手艺,本身就是一种了不起的成就。相信不久的以后我们国的光刻机手艺必将取得更巨大突破。
眼下很许多人中意用“遥遥领先”来嘲讽我们国的光刻机。但说实在的,在光刻机这件事上,我们中国确实能说是遥遥领先。为啥?基本上原因是我们国是凭自己的一己之力在造光刻机啊。放眼全球,有几个国能做到这一点?这不是遥遥领先又是啥呢?
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