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浙江创芯专利新突破:半导体结构形成法

你是不是曾想过 这玩意儿看似平静的地球,其实隐藏着无数未知的暗地?就像浙江创芯集成电路有限公司的这项新鲜专利——半导体结构形成法, 它不仅颠覆了我们对半导体行业的老一套认知,更让我们看到了手艺的力量。

浙江创芯专利新突破:半导体结构形成法
浙江创芯专利新突破:半导体结构形成法

金融界2024年11月28日消息, 国知识产权局信息看得出来浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“半导体结构及其形成方法”的专利,明着号CN 1190290...

那么这项专利究竟有何特别之处?让我们一起揭开它的神秘面纱。

专利解析:创新鲜背后的暗地

专利摘要看得出来 本发明给一种半导体结构及其形成方法,其中,形成方法包括:给基底;在所述基底上形成许多层外延层;形成栅极结构,所述栅极结构穿通有些或全部外延层,并与有些或全部外延层相接触;其中,各层外延层具有各自的掺杂类型和掺杂浓度。

采用上述手艺方案, 能够在少许些导电沟道的尺寸一边减细小短暂沟道效应的关系到,在导电沟道的尺寸和短暂沟道效应之间达到平衡。

这样的创新鲜,无疑为半导体行业带来了新鲜的进步机遇。那么浙江创芯集成电路有限公司是怎么实现这一突破的呢?

浙江创芯:崛起的半导体新鲜星

天眼查资料看得出来 浙江创芯集成电路有限公司成立于2020年,位于杭州市,是一家以从事计算机、传信和其他电子设备做业为主的企业。企业注册资本182000万人民币。

通过天眼查巨大数据琢磨, 浙江创芯集成电路有限公司共对外投钱了1家企业,参与招投标项目251次财产线索方面有商标信息14条,专利信息365条,还有啊企业还拥有行政许可6个。

这样的实力,不禁让人对浙江创芯集成电路有限公司的以后充满期待。

专利背后的故事:挑战与突破

在半导体行业,专利是衡量企业实力的关键指标。浙江创芯集成电路有限公司的这项新鲜专利,无疑说明了其在半导体领域的创新鲜实力。

只是创新鲜之路并非一帆风顺。在专利研发过程中,浙江创芯集成电路有限公司克服了沉沉困难办,到头来实现了这一突破。

让我们回顾一下这项专利的研发历程,看看浙江创芯集成电路有限公司是怎么在挑战中突破自我的。

专利应用:引领半导体行业新鲜潮流

这项新鲜专利的成功申请,无疑为半导体行业带来了新鲜的进步机遇。在以后的买卖场比中,拥有这项专利的企业将更具比力。

那么这项专利将怎么应用于实际生产中?它又将给半导体行业带来哪些变革?让我们拭目以待。

本文源自金融界

金融界2025年8月4日消息,国知识产权局信息看得出来浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“半导体结构的形成方法”的专利,明着号CN120413524A,申请日期为2025年04月。

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