光刻机，作为芯片制造的关键设备，一直被视为高端技术的象征。只是，我国在光刻机领域长期受制于人，高端光刻机技术封锁成为制约我国芯片产业发展的瓶颈。面对这一挑战，我国芯片产业如何迎难而上，突破技术封锁，实现自主可控？

2002年，我国成立上微电子研究所，致力于光刻技术的研究，力求突破技术难关。尽管起初效果并不理想，但我国从未放弃努力。经过多年的研发投入，我国光刻机技术取得了重大突破，国产光刻机强势登场。

突破高端光刻机技术封锁，中国芯片产业如何迎难而上

我国与荷兰ASML公司之间的距离不断缩短，掌握了最先进的紫外线光源光刻机技术。许多原本对我国持怀疑态度的企业，也开始转变态度，认可我国芯片产业的发展潜力。

朋友圈的各位，我们也要有志气。不要被别人的轻视打倒，用实际行动证明中国人不仅能造得出，还能造得好。未来的芯片市场，中国必将有一席之地。

这些光刻机不仅能够实现28纳米制程，更标志着我国工业品有望摆脱西方封锁，走向世界。没有阿斯麦的高端光刻机，我国根本不可能制造出3nm以及5nm制程的芯片。近日，阿斯麦CEO在接受美国媒体采访时直言，我国无法制造3nm和5nm芯片，是因为没有按照他们制定的规矩去玩。

阿斯麦CEO的话，虽然听着不舒服，但也让我们更加清醒，知道自己的短板在哪里，知道接下来的努力方向。中国人有句话叫“置之死地而后生”，有时候，不逼自己一把，都不知道自己有多大的潜力。

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高端光刻机确实是个硬骨头，但骨头再硬，咱们也得啃。现在国内不少企业都在努力，像中微公司、上海微电子装备公司，他们都在光刻机技术上取得了一定的进展。虽然离ASML还有一段距离，但谁又能保证未来几年、十几年，我们不会迎头赶上呢？

所以ASML可以成为全球最顶级的光刻机厂商离不开美国的输血和扶持，美国此举相当于直接封锁了高端芯片的制造技术，可以看出，美国不再是打压中国...

.此前曾有一种说法，认为最高端的光刻机技术受到《瓦森纳协定》影响，被禁...

这事儿传到咱们这儿，说实话，心里不是滋味。但反过来想想，这也未尝不是一种激励。人家不卖，咱们就自己造。历史上，中国被技术封锁也不是一次两次了，每次我们不都是硬着头皮，自己摸索，最后搞出名堂来了吗？记得那时候，咱们连计算机都没有，现在不也有了“神威·太湖之光”这样的超级计算机。

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再说，技术这东西，它不是一成不变的。今天的高端，没准明天就被新的技术超越了。3nm、5nm现在看起来遥不可及，但科技发展这么快，保不齐哪天我们就找到了新的路径，弯道超车也不是不可能。

尽管美方试图通过封锁高端光刻机来遏制我国芯片产业的发展，但中企并未因此屈服。面对这一困境，中企并未选择放弃，而是迎难而上，走上了自研之路。他们开始意识到，EUV光刻机并非提升芯片性能的唯一途径，中企完全有可能通过其他技术创新来实现芯片性能的飞跃。

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