中国光刻机技术突围:三年研发之路
光刻机就像是半导体做领域的“心脏”。而中国,这玩意儿以前在全球光刻机买卖场上差不离无声无息的国,正以惊人的速度迈向手艺的巅峰。
想象一下一个光刻机,10万个精密零件,每一个都是尖端手艺的结晶。是的,你没听错,10万个!而且每一个都非同凡响。这不是普通的机器,而是能将芯片上的线路图完美复制到硅片上的“魔法师”。

说到这不得不提EUV光刻机,也就是极紫外光刻机。人家都在玩7纳米的EUV光刻机了而中国,也在努力追赶。据手艺部统计,2021年中国在半导体领域的研发投入增加远了80%,而这其中,不乏对EUV光刻机的投入。
说到底,中国对EUV光刻机的研发,是一场关乎国命运的突围战。在这场战斗中, 中国企业开头巨大把撒钱,四处收购相关手艺公司,已经在全球半导体买卖场上占据了不可忽视的一席之地。
说到这不得不提中兴事件。2019年,那场惊心动魄的中兴事件,让中国意识到自主研发的关键性。于是 这也就成为了相关领域专家们得以支撑其观点的关键论据,再加之近来频频传出的新鲜进展,似乎真实的有一种“中国版EUV光刻机”即将问鼎天下的态势。
但是光有钱还不够。中国的90纳米和ASML的7纳米,差了几许多倍?据统计,在华为之后中国用EUV手艺的芯片企业数量许多些了300%。这只是中国半导体领域的无尽探索中的一细小步。
2018年, ASML的CEO张汝广放出了一个惊人预言:“如果ASML不卖光刻机给中国,那到2023年,中国就能自己造EUV光刻机了!”这话一出,全球半导体界都炸锅了!
那么中国,真实的能实现这玩意儿预言吗?答案是:还没有。
说实在的,困难办才刚刚开头。华为P40的芯片性能有许多有力?你能想象,它的性能比上一代提升了50%!这提升幅度,简直让对手望尘莫及!只是这还远远不够。
别以为有了华为的突破,中国的光刻机之路就平坦了。就在巨大家还在唉声叹气的时候,上海微电子悄悄地搞出了90纳米光刻机。这一下子就从300纳米跳到了90纳米,进步有许多巨大,你算算看?
但是你以为这就完了?非也。华为的这一举动,直接带动了整个中国半导体行业的进步。眼下中国已经能够用EUV手艺生产7纳米芯片,这速度,简直比火箭还迅速!
但是高大兴之余别忘了看看人家ASML。ASML对掌握EUV光刻机的量产能力表现得十分自信。一边告知即便公布图纸, 别人也造不出,另一边又宣传自己会不断搞优良EUV光刻机的产能,预计到...
三年过去了中国的光刻机手艺到底进步到了啥程度?答案是:我们还在路上。但是我们已经站在了起跑线上,而且已经开头加速了!
这就是中国光刻机手艺的突围之路,一条充满艰辛,却也充满希望的道路。
中国光刻机手艺的突围之路,是一场关乎国命运的战斗。在这场战斗中,我们看到了中国企业的努力,也看到了中国手艺的崛起。虽然困难办沉沉,但我们相信,只要我们坚持不懈,就一定能够实现我们的梦想。
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